原子层沉积系统应用案例

Picosun ALD系统为Fraunhofer ISIT提供粉末MEMS技术加工平台

发布时间：2022-05-09人气：791

Fraunhofer Institute for Silicon Technology (Fraunhofer ISIT, 弗劳恩霍夫硅技术研究所)采用Picosun®P-300B ALD系统作为其粉末MEMS技术加工平台。

Picosun®P-300B ALD系统

Fraunhofer ISIT的 PowderMEMS是一项创新技术，用于在晶圆上从多种材料中创建三维微结构——该技术是利用原子层沉积(ALD)技术在空腔内将微米级粉末颗粒键合在一起。与其他制造技术相比，这种创新技术有许多优点，比如它允许使用比传统烧结工艺更低的工艺温度。键合后的多孔结构具有耐热性和耐化学性，因此能够更为灵活的在洁净室中进行后续工艺加工。

“该技术可用于各种应用，如微电子、MEMS传感器、MEMS致动器和微流体。例如，它可以在晶圆级集成多孔和磁性3D微结构，”Fraunhofer ISIT的负责人Björn Gojdka博士解释道。

“我们一直在寻找一种解决方案，为位于沟槽中的粉末进行高保形的表面涂层。Picosun的解决方案完美地满足了这一需求，因为我们也在考虑扩大该技术的应用规模。Fraunhofer ISIT首席科学家Thomas Lisec博士表示:“我们对该设备的热壁反应腔设计、灵活的前驱体源路系统和非常便捷的维护感到特别满意。”

“我们对这项新技术的诞生以及它将带来的所有机遇感到兴奋。我特别看好Fraunhofer ISIT粉末MEMS技术潜在的多样化应用。。我期待着继续与Fraunhofer ISIT密切合作，一起将该技术向工业生产推进。”Picosun总经理Christoph Hossbach博士说道。

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